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[填空题]

P型半导体的多子为()、N型半导体的多子为()、本征半导体的载流子为()。

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第1题
在P型半导体中电子是多子,空穴是少子。()
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第2题
在P型半导体中()是多子,()是少子。
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第3题
N型半导体的多子就是自由电子,少子就是空穴。()
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第4题
本征半导体掺入微量三价元素形成是()型半导体,其多子为()。
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第5题
在N型半导体中()是多子,()是少子。
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第6题
在N型半导体中空穴是多子,电子是少子。()
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第7题
理想的MIS结构在外加偏压的作用下,半导体表面可能形成的状态有?()

A.多子积累

B.多子耗尽

C.平坦能带

D.本征状态

E.少子反型

F.少子积累G、少子耗尽

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第8题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子耗尽状态到少子反型状态的过渡状态是?()

A.本征状态

B.平坦能带状态

C.多子积累状态

D.深耗尽状态

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第9题
温度升高,杂质半导体中多子的浓度也会增加()

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第10题
关于杂质半导体中的载流子浓度说法正确的是()。

A.多数载流子基本上由掺杂形成,所以多子浓度接近掺杂浓度

B.少数载流子由本征激发形成

C.多子浓度远大于少子浓度

D.若在一块半导体材料中同时掺入施主杂质和受主杂质,则产生杂质补偿作用,杂质半导体的特性由掺杂浓度高的杂质所决定

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第11题
如何确定半导体氧化物为n型或p型?
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