题目内容
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[单选题]
使用化学机械抛光进行粗抛时抛光区域温度一般控制在()。
A.38-50℃
B.20-50℃
C.20-30℃
D.20-38℃
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A.38-50℃
B.20-50℃
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A.在地面上向上抛一个石头，石头下落
B.在标准大气压下且温度低于0°C时，冰融化
C.某人射击一-次，中靶
D.在常温下，铁熔化
E.如果a>b,那么a-b>0
A.在地面上向上抛一个石头，石头下落
B.在标准大气压下且温度低于0°C时，冰融化
C.某人射击一-次，中靶
D.若x>0,则x>3
E.如果a>b,那么a-b>0
A.抛釉砖工艺上分透明釉和透明凸状花釉，由马可波罗发明的透明凸状花釉逼真度更高，工艺门槛更高
B.集抛光砖和仿古砖优点于一体，釉面如抛光砖光滑亮洁，同时釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重绚丽
C.是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料
D.抛釉砖防污效果和耐磨程度比抛光砖差
用集合的形式表示下列随机试验的样本空间与随机事件A：
(1)抛一枚骰子，观察向上一面的点数;事件A表示“出现偶数点”;
(2)对目标进行射击，击中后便停止射击，观察射击的次数;事件A表示“射击次数不超过5次”;
(3)用T0，T1表示某地最低、最高温度限，x，y表示一昼夜内该地可能出现的最低和最高温度，记录一昼夜内该地的最高温度和最低温度;事件A表示“一昼夜内该地的温差为10℃”。
