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第2题
关于超临界流体快速膨胀法合成粉体过程的描述，正确的是()。
关于超临界流体快速膨胀法合成粉体过程的描述，正确的是（)。
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A.适用于一些对振动敏感，易热分解或化学分解，很难以机械研磨方式制细的粉体的制备
B.这种方法已经被用于一些无机物和陶瓷粉体材料的制备
C.合成二氧化硅和a氧化铝时使用的超临界流体是一些超临界温度比较高的溶剂如水、乙醇和戊烷等
D.在超临界水中合成二氧化硅和a氧化铝时操作压力在18-60MPa之间，膨胀前温度300-600度，得到晶体的粒度一般为纳米级
第5题
对于某种薄膜的CVD过程，淀积温度为900℃，质量传输系数hG=10cms-1，表面反应速率系数ks=1×107exp（-1.9eV/kT）cms-1.现有以下两种淀积系统可供选择（1）冷壁，石墨支座型；（2）热壁，堆放硅片型。应该选用哪种类型的淀积系统并简述理由。
第6题
玻璃熔制过程中有哪些物理和化学反应（)。
A.配合料组分中附着水的蒸发
B.配合料水分的分解，化学结合水及其它气体逸出
C.混和物易熔组分原料的熔化和各组分的混合物形成液相，出现低共熔混合物;
D.液相互熔，产生无结晶物质均匀的熔融玻璃液
E.气相溶解
