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[填空题]

对于N型半导体,当掺杂浓度提高时,费米能级分别向()移动;对于P型半导体,当温度升高时,费米能级向()移动。

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第1题
对于p型半导体形成的MOS电容结构,当金属端外加负电压时,表面能带向弯曲,表面为状态;对于n型半导体表面能带向弯曲,表面为状态()。

A.上,积累,下,耗尽或反型

B.上,耗尽或反型,上,积累

C.上,积累,上,耗尽或反型

D.下,积累,下,耗尽或反型

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第2题
以下关于“热平衡状态”和“非平衡状态”的描述正确的是()。
A、半导体处于热平衡状态时,有确定的载流子浓度,即平衡载流子

B、半导体处于热平衡状态时,整个材料具有统一的费米能级

C、半导体处于热平衡状态时,载流子的产生过程与复合过程达到动态平衡

D、在外界作用下,半导体中额外产生了载流子,即非平衡载流子,半导体进入非平衡状态

E、在外界作用下,如果载流子的产生过程与复合过程达到动态平衡,载流子浓度具有确定的值,此时半导体为热平衡态

F、在外界作用下,稳定时,载流子的产生过程与复合过程达到动态平衡,载流子浓度具有确定的值,但此时半导体为非平衡态

G、半导体处于非平衡态时,整个材料不具有统一的费米能级

H、半导体处于非平衡态时,导带电子的分布用导带准费米能级表征,价带空穴的分布用价带准费米能级表征

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第3题
解释n型半导体、P型半导体及费米能级Ef的定义?
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第4题
元素半导体可分为本征半导体和掺杂半导体,后者又分为n£­型半导体和p£­型半导体。()
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第5题
在双极型晶体管中,提高集电区掺杂浓度可以抑制:()。

A.集电区穿通效应

B.Early效应

C.基区穿通效应

D.Webster效应

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第6题
处于热平衡状态的半导体,应满足以下条件或符合以下特征:()。

A.无外界作用

B.有确定的载流子浓度

C.有统一的费米能级

D.载流子浓度的乘积等于本征载流子浓度的平方

E.导带和价带之间没有统一的费米能级

F.载流子浓度的乘积不等于本征载流子浓度的平方G、有非平衡载流子

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第7题
关于杂质半导体中的载流子浓度说法正确的是()。

A.多数载流子基本上由掺杂形成,所以多子浓度接近掺杂浓度

B.少数载流子由本征激发形成

C.多子浓度远大于少子浓度

D.若在一块半导体材料中同时掺入施主杂质和受主杂质,则产生杂质补偿作用,杂质半导体的特性由掺杂浓度高的杂质所决定

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第8题
对于半导体材料,若(),导电能力减弱。

A.环境温度降低

B.掺杂金属元素

C.增大环境光照强度

D.掺杂磷或硼元素

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第9题
当硅中掺杂以施主杂质(v族元素:磷、砷、锑等)为主时,以()导电为主,成为N型硅;当硅中掺杂以受主杂质(Ⅲ族元素:硼、铝、镓等)为主时,以()导电为主,成为P型硅。
当硅中掺杂以施主杂质(v族元素:磷、砷、锑等)为主时,以()导电为主,成为N型硅;当硅中掺杂以受主杂质(Ⅲ族元素:硼、铝、镓等)为主时,以()导电为主,成为P型硅。

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第10题
对于平行反应,当a1<a2、b1<b2时,反应物的浓度()有利于提高选择率,应当选择()反应器为好。
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第11题
制备杂质半导体时一般按什么比例在本征半导体中掺杂?
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