首页 > 学历类考试 题目内容 (请给出正确答案) [判断题] LPCVD系统中淀积速率是受表面反应控制的,APCVD系统中淀积速率受质量输运控制。() 查看答案 答案 收藏 如果结果不匹配,请 联系老师 获取答案 您可能会需要: 您的账号:,可能还需要: 您的账号: 发送账号密码至手机 发送 重置密码 查看订单 联系客服 安装优题宝APP,拍照搜题省时又省心! 重要提示:请勿将账号共享给其他人使用,违者账号将被封禁。