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[主观题]

现在国际上批量生产IC所用的最小线宽大致是多少,是何家企业生产?请举出三个以上在这种工艺中所采用的新技术(与亚微米工艺相比)?

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第1题
()有时也称线宽,通常是指集成电路中()的最小尺度。
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第2题
样板是服装企业批量生产必不可少的标样和模板,是生产中的主要依据,在生产中用于排料,划样、裁剪所用的样板俗称生产样板。()
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第3题
DRC即中文的(),是指计算机对照相底图进行电气规则和几何规则的检查,如检查最小线宽、最小间距、开路和短路等。
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第4题
一个批量生产的零件存在设计基准和定位基准不重合的现在,该加工在批量生产时()。

A.可以通过首件加工和调整使整批零件加工合格

B.不可能加工出合格的零件

C.不影响加工质量

D.加工质量不稳定

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第5题
400米及400米以下各项径赛,每名运动员应占有一条分道,分道宽最小为()米,分道线宽()厘米,所有分道宽应相同。
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第6题
以下哪一项为干线停车卡位线标准()

A.标线宽10CM

B.干线停车卡位线宽度为2.8m

C.单向通道线最小宽度1m

D.双向通道线宽度根据实际场地划定,中间用虚线+箭头标注

E.人行通道标识间隔设置最小10m

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第7题
为实现更小的微细加工线宽,最新的光刻技术采用浸没式光刻机以实现更高的分辨率。假定光刻机所用透镜的半径为6cm,透镜的焦长为10cm,浸没的液体为折射率1.44的水溶液,光刻机使用的光源为波长193nm的准分子激光器,k值为0.6,试求此镜头的数值孔径NA、焦深和光刻机的分辨率。
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第8题
目前工业上所用的流量仪表大致分为:()三大类。
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第9题
自()年研究开发成功第一块单片集成电路以来,建立了几个集成电路重点科研和生产基地。现在每年可生产2.5亿块电路,增长幅度达45%。“九五”末期集成电路批量生产的水平为1—1.5微米,研究水平为0.8微米,并在0.5—0.6微米工艺技术预研取得成果。

A.1956

B.1965

C.1966

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第10题

现在国际上公认采用标准氢电极作为参比电极,规定标准氢电极的电位为0.()

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第11题
下列对文化常识相关内容的解说,不正确的一项是()

A.祭酒是古代主管国子监或太学的教育行政长官。战国时孟子曾三任稷下学宫的祭酒,相当于现在的大学校长

B.伯仲叔季是兄弟行辈中长幼排行的次序。伯(孟)是老大,仲是老二,叔是老三,季是最小的孩子

C.三牲指古代用于祭祀的牛、羊、猪,后来也称鸡、鱼、猪为三牲,也指夏、商、周三代所用牺牲的总称

D.膜拜是古代的拜礼。行礼时,两手放在额上,长时间下跪叩头。原专指礼拜神佛时的一种敬礼,后泛指表示极端恭敬或畏服的行礼方式

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