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预脱硅与一段脱硅有何区别？

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第1题

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第2题

分解过程中添加晶种的成分是()，脱硅过程中添加晶种的成分是()。

分解过程中添加晶种的成分是（)，脱硅过程中添加晶种的成分是（)。

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第3题

下列因素中，能提高一次脱硅速度和深度的是（)。

A.提高脱硅温度

B.适宜降低αK值

C.添加晶种

D.采用高压脱硅

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第4题

铁水予处理“三脱”是指（)。

A.脱硫脱碳脱磷

B.脱硫脱硅脱磷

C.脱硫脱锰脱磷

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第5题

切应力τ与正应力σ有何区别？

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第6题

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第7题

高含盐脱水工艺要求一段、二段脱水中掺水量在（）%左右。A.5B.8C.10D.15

高含盐脱水工艺要求一段、二段脱水中掺水量在（）%左右。

A.5

B.8

C.10

D.15

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第9题

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扩散硅压力变送器是基于扩散硅半导体压阻片的（)与被测压力成正比的原理工作的。

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第10题

水与硅化镁、硅化铁等接触，会释放出自燃物______。中文名硅烷，又叫四氢化硅A.AL（OH)3B.NaOHC.SiH4D

水与硅化镁、硅化铁等接触，会释放出自燃物______。中文名硅烷，又叫四氢化硅

A.AL(OH)3

B.NaOH

C.SiH4

D.CaC2

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第11题

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