题目内容
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[主观题]
直拉硅单晶的氧杂质在低温热处理时,会产生施主效应,使得N型硅晶体的电阻率下降,P型硅晶体的电
阻率上升。施主效应严重时,能使P型硅晶体转化为N型,这就是氧的施主效应。氧的施主效应可以分为两种情况,有不同的性质,一种是在350~500℃左右温度范围生成的,称为();一种是在550~800℃左右温度范围形成的,称为()。
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A.往往意味着原料变轻,变劣
B.稠环化合物,芳烃含量相应增加,其它杂质含量上升
C.使催化剂失活速度减慢
D.低温部位铵盐结晶加剧