如果结果不匹配，请 
更多“摄影曝光与显影是相辅相成的，曝光决定着底片的密度，显影决定着…”相关的问题
第3题
OP反馈Mura异常后，以下说法错误的是（）
A．已知Mura可直接续流B．未知Mura加检PH前MAC仍存在需反馈PIE及前四站科室共同调查C．未知Mura加检CD密集点无异常后可反馈PIE决定是否可正常run货D．转向验证条件中，基板反向进Clean/正向曝光/正向显影，Mura位置反向，则Mura与Clean到 Interface间单元强相关
点击查看答案
第6题
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（)。
A.涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B.涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C.涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D.前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
